价值3.83亿美元 Intel拿下全球第二台High NA EUV光刻机
8月6日消息，价值在近日的亿美元财报电话会议上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的拿下欧易注册High NA EUV（极紫外光刻机）。
High NA EUV光刻机是全球目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，第台能够显著提升芯片的刻机晶体管密度和性能，是价值实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。
帕特·基辛格表示，亿美元第二台High NA设备即将进入Intel位于美国俄勒冈州的拿下晶圆厂，预计将支持公司新一代更强大的全球欧易注册计算机芯片的生产。
此前，第台Intel已于去年12月接收了全球首台High NA EUV光刻机，刻机并在俄勒冈州晶圆厂完成了组装。价值
此次第二台设备的亿美元引入，将进一步提升Intel在高端芯片制造领域的拿下竞争力，有望帮助公司在2025年实现对台积电等竞争对手的超越。
High NA EUV光刻机的引入，是Intel"IDM 2.0"战略的一部分，该战略旨在通过技术创新和工艺提升，重塑Intel在全球半导体产业的领导地位。
Intel计划在2027年前将High NA EUV技术用于商业生产，并在2030年前实现代工业务的收支平衡。
本文地址：http://ivye.webzbyi.cn/html/72f9099837.html
版权声明
本文仅代表作者观点，不代表本站立场。
本文系作者授权发表，未经许可，不得转载。